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真空鍍膜鈦靶材

[ 信息發布:管理員 | 發布時間:2017-06-24 | 瀏覽:1767次 ]

真空鍍膜鈦(tài)靶材
真空鍍膜鈦靶材
發布時間:2017-06-24
聯係電話(huà):18700763094   0917-3632690
產品介紹(shào):

1. 產品簡介

鈦含量≥:99.8(%)雜質含量:0.02(%)
牌號: TA1,TA2,TA3,TC4(Ti6AL4V),GR1,GR2,GR3,GR5( Ti6AL4V)

鈦圓靶 :技術條件:符(fú)合GB/T2695-1996,ASTMB348-97

鈦(tài)板靶 :技術條件:符合GB/T3621-94,ASTM B265-93

用途:用(yòng)於半導體分離器件、平麵顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表麵(miàn)塗層,玻璃鍍膜工業

2. 產品規格

圓靶:常用規格:60/65/95/100*30/32/40/45mm
板靶:(8-25)mm * (150-300) mm * (1000-2500)mm
管靶: 70mm * 7mm/10mm

3. 材質
TA1(Grade 1)、Zr1、Ta1、Mo1、Ni6


4. 性能標(biāo)準

化學成分符合 GB/T 3621-2007,GB/T 2965-2007,GB/T 3625-2007 等標準。


5. 標準值

化(huà)學成分參考標準

牌號

Al

V

N≤

C≤

H≤

Fe≤

O≤

其他元素(單一)

其他元素(總和)

TA1

0.03

0.08

0.015

0.20

0.18

0.1

0.40

TA2

0.03

0.08

0.015

0.30

0.25

0.1

0.40

TC4

5.5-6.75

3.5-4.5

0.05

0.08

0.015

0.30

0.20

0.1

0.40


機械(xiè)性能參考標準

牌號

室溫下力學性能,不小於

抗(kàng)拉強(qiáng)度

屈服強度

伸長率

斷麵收縮率

TA1

240 MPa

170MPa

25%

30%

TA2

345MPa

275 MPa

20%

30%

TC4

895MPa

825 MPa

10%

20%

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